上海语荻光电申请光学元件抛光中曲率自适应曲面拟合方法及系统专利，能够满足高精度光学制造的工艺控制需求

国家知识产权局信息显示，上海语荻光电有限公司申请一项名为“光学元件抛光中曲率自适应曲面拟合方法及系统”的专利，公开号CN122077458A，申请日期为2026年4月。

专利摘要显示，本发明涉及光学精密加工技术领域，特别涉及一种光学元件抛光中曲率自适应曲面拟合方法及系统，基于光学元件在抛光前后干涉测量数据得到材料去除高度差矩阵；使用滑窗方式对高度差矩阵进行遍历，在局部区域内计算Hessian矩阵特征值，形成曲率敏感度指标（CSI），将光学表面区域分为平面区、缓变区和高曲率区，分别在区域中设置曲面拟合参数；对区域采用加权最小二乘方法进行曲面拟合得到连续表面模型，并对连续表面进行自适应数值积分计算得到材料去除体积。本发明能够满足高精度光学制造的工艺控制需求，计算精度较高，能够最大化计算精度和计算效率，具有较高的全局效率并且能够捕捉局部特征的能力，可集成到现有质量控制体系中，便于工艺决策制定。

天眼查资料显示，上海语荻光电有限公司，成立于2019年，位于上海市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本837.2496万人民币。通过天眼查大数据分析，上海语荻光电有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目18次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息21条，此外企业还拥有行政许可4个。

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本文源自：市场资讯

作者：情报员

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